安博电竞中国官方网站下载地址盛美半导体TEBO兆声波清洗技能专利在美国取得授权
发布时间：2021-07-18 17:38:36
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“咱们很快乐地宣告，美国专利局决议颁发咱们TEBO技能的专利，这加强了咱们在先进无损伤兆声波清洗技能领域用于杂乱3D结构器材的清洗成功地应对了应战、克服了技能妨碍，在2015年发明晰TEBO技能。在未来，咱们将在几十个要害的清洗过程中为
据悉，盛美的TEBO清洗技能适用于28nm或以下的图形硅片清洗，经过一系列频率高达每秒100万次的压力改变，使得气泡在受控的温度下，以安稳的尺度和形状进行振动。这些气泡被控制在安稳的振动状态下，不会产生内爆，因而不会损坏晶圆外表的微结构，晶圆外表的图形结构也能够被清洗洁净，并防止遭到损坏。在产品结构从2D向3D的技能转型过程中，根据TEBO的清洗设备能够应用于FinFET、DRAM、新式的3D NAND等更杂乱的3D结构产品，来进步客户产品的良率。2020年9月，盛美已向一家抢先的我国集成电路厂商交付了第二代TEBO设备，用于在出产环境中进行评价。现在，盛美已在我国、美国、日本、韩国、新加坡等地取得超越285项专利。(吴绮玥)
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